Workshop 5 -

Atomic Layer Deposition (ALD)

Mi., 09.10.2019, 13:30 – 17:30 Uhr
Do., 10.10.2019, 09:00 – 12:30 Uhr

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Programmkomitee:

Dr. Jonas Sundqvist

Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTS, Dresden

Weitere Programmpunkte

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Downloads

Program WS5 ALD [PDF]

Vorlesung | 09.10.2019

Lecture

Prof. Tuomo Suntola, Finland
Millenium Technology Prize 2018

Vorträge | 09.10.2019 & 10.10.2019

„Advances in quantitative characterization of thin films with help of AFM-based methods“
Malgorzata Kopycinska-Müller, Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTS, Dresden

„Conformality in Atomic Layer Deposition“
Véronique Cremers, Plasma Electronic GmbH, Neuenburg

„In situ metrology for Atomic Layer Deposition processes“
Martin Knaut, Technische Universität Dresden, IHM, Dresden

„Oxides for Electronics“
Mari Napari, Department of Materials Science and Metallurgy, University of Cambridge, Cambridge, UK

weitere Vorträge folgen in Kürze …