Workshop 5 -

Atomic Layer Deposition (ALD)

Mi., 09.10.2019, 13:30 – 17:30 Uhr, Saal 3
Do., 10.10.2019, 09:00 – 12:30 Uhr, Saal 3

Workshop-Sponsors

Co-Organizer

Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTS, Dresden

 

Program Committee:

Dr. Jonas Sundqvist

Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTS, Dresden

Atomic Layer Deposition

Further Program

Poster Session
Please, also visit the poster session in the afternoon.
09.10.2019, 10:00 – 16:00, Industrial Exhibition

You want to present a poster at V2019? More information you can find here.

Lab Tour
Use the chance and visit Fraunhofer IKTS.
10.10.2019, 13:00 – 16:00
Please note, a confirmed reservation is necessary.

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Programm WS5 ALD [PDF]

Publikationen

Sie möchten Ihre Forschung oder Entwicklungen gern in der Fachpresse veröffentlichen? Unser Media Partner, die Fachzeitschrift PLUS “Produktion von Leiterplatten und Systemen“ unterstützt Sie gern dabei.

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Kontakt: Volker Tisken, Chefredakteur PLUS, volker.tisken@leuze-verlag.de.

Lecture | 09.10.2019

13:30 – 14:15 | Lecture, part I
„45 years of ALD“
Prof. Tuomo Suntola, Picosun Oy, Espoo, Finland
Millenium Technology Prize 2018

Abstract [PDF]

© Picture: By courtesy of Technology Academy Finland.

14:15 – 15:00 | Lecture, part II
Current and Emerging ALD Processes, Precursors and Applications in High Volume Production
Jonas Sundqvist, Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTS, Dresden, Germany

Abstract [PDF]

Coffee break including Poster Session & Fachkräfte Scouting
15:00 – 16:00 | in the Exhibition

Workshop

Wednesday, 09.10.2019

16:00 – 16:30 | WS5 – V01
„Development of Optical Thin Film Coatings by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition“

Adriana Szeghalmi, Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Jena, Germany

16:30 – 17:00 | WS5 – V02
„Multi-layer Stacked ALD Coating for Hermetic Encapsulation of Implantable Biomedical Microdevices“

Christoph Hossbach, Picosun group, Espoo, Finnland

Abstract [PDF]

17:00 – 17:30 | WS5 – V03
„Fast plasma ALD employing de Laval Nozzles for high velocity precursor injection“

Abhishekkumar Thakur, Plasway-Technologies GmbH, Dresden, Germany

Abstract [PDF]

Event Note:
18:30 – 22:30 Uhr | V-Dinner at the „Terassenebene“ of the ICD
Separate ticket necessary.


Thursday, 10.10.2019

9:00 – 9:30 | WS5 – V04
„Advances in quantitative characterization of thin films with help of AFM-based methods“

Malgorzata Kopycinska-Müller, Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTS, Dresden, Germany

Abstract [PDF]

9:30 – 10:00 | WS5 – V05
„In situ metrology for Atomic Layer Deposition processes“

Martin Knaut, Technische Universität Dresden, IHM, Dresden, Germany

Abstract [PDF]

10:00 – 10:30 | WS5 – V06
„Conformality in Atomic Layer Deposition“

Véronique Cremers, Plasma Electronic GmbH, Neuenburg, Germany

Abstract [PDF]

Coffee break including Industrial Exhibition
10:30 – 11:00 Uhr | rooms of the exhibition

11:00 – 11:30 | WS5 – V07
„Oxides for Electronics“

Mari Napari, Department of Materials Science and Metallurgy, University of Cambridge, Cambridge, UK

Abstract [PDF]

11:30 – 12:00 | WS5 – V08
„Atomic Layer Deposition of Indium Nitride using Hexacoordinated In–N Bonded Precursors and NH3 Plasma“

Nathan O´Brian, Linköping University, Linköping, Sweden

Abstract [PDF]

12:00 – 12:30 | WS5 – V09
„Doping hafnium oxide by in-situ precursor mixing“
Wenke Weinreich, Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS, Dresden, Germany

Abstract [PDF]

Event Note:
13:00 – 16:00 Uhr | Lab Tours
Confirmed reservation necessary.