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Europäische Forschungsgesellschaft Dünne Schichten e.V.

+49 351 8718370||www.efds.org

April 2021

Fachausschuss FABF: Beschichtungstechnologien für optische und elektronische Funktionalisierungen

April 20

♦ Diskussion aktueller Forschungsthemen ♦ Fortschritt laufender IGF-Projekte ♦ Vorstellung neuer Projektskizzen für IGF-Projekte Die Deadline für die Einreichung der Projektskizzen ist auf den 22.03.2021 festgesetzt. Agenda virtuell

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Fachausschuss FABM: Oberflächen und Beschichtungen in der Bio- und Medizintechnik und Fachausschuss FAFK: Funktionalisierung von Kunststoffen

April 29

♦ Diskussion aktueller Forschungsthemen ♦ Fortschritt laufender IGF-Projekte ♦ Vorstellung neuer Projektskizzen für IGF-Projekte Die Deadline für die Einreichung der Projektskizzen ist auf den 29.03.2021 festgesetzt.

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Juni 2021

Europäisches H2-Symposium: Oberflächenfunktionalisierung – Schlüsseltechnologie für eine effiziente Wasserstoffwirtschaft

Juni 7 - Juni 8
Innovationscampus Görlitz, Lutherstraße 51
Görlitz, Sachsen 02826 Deutschland
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PROGRAMM Das Symposium befasst sich mit Möglichkeiten und Perspektiven zur Steigerung der Effizienz der Wasserstoffwirtschaft mittels Oberflächenfunktionalisierung. Ziel ist u.a. die Vernetzung der Dünnschichtszene mit den Wasserstoff-Protagonisten, um die aktuellen Herausforderungen besser zu verstehen und Lösungen für den Standort Europa zu erarbeiten. ZIELGRUPPE Wasserstofftechnik | Energiewirtschaft | Oberflächentechnik | Produktionstechnik/ -technologie | Gebäudetechnik | Ressourcenwirtschaft | angrenzende Fachgebiete VORTRÄGE u.a. von SIEMENS energy | Hauzer/Ionbond | Vitesco | Fraunhofer Gesellschaft | Forschungszentrum Jülich | Helmholtz-Institut Erlangen-Nürnberg PODIUMSDISKUSSION | WERKSBESICHTIGUNG BEI…

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Workshop: Oberflächenmodifikation und Endbearbeitung additiv gefertigter Bauteile – SurfAM3

Juni 15 @ 09:30 - Juni 16 @ 13:15

Workshop mit Fokus auf das Postprocessing / Endbearbeitung additiv-hergestellter Bauteile Inklusive: Firmenausstellung, Use-Case-Betrachtungen, Führung und Praxissession am Zentrum für Additive Fertigung Dresden (Fraunhofer IWS) Nach erfolgreicher Auftaktveranstaltung in 2019, greift der 3. SurfAM-Workshop vom 15.-16. Juni 2021 in Dresden zahlreiche wichtige Themenstellungen des Postprocessings und der Oberflächenmodifikation von additiv-gefertigten Bauteilen auf. ♦ Gewinnen Sie neue Eindrücke zur additiven Fertigung und deren nachgelagerten Prozessschritten ♦ Tauschen Sie sich mit Experten aus ♦ Gestalten Sie ausgewählte anwendungsnahe Use Cases mit Der maßgeschneiderte…

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Aufbauseminar: Grundlagen der Plasmatechnik

Juni 29 @ 08:00 - 17:00

PROGRAMM 1-tägiges Aufbauseminar vor Ort am Fraunhofer FEP in Dresden mit Theorie- und Praxisteil. Erfahrene Spezialisten, Frau Dr. Manuela Junghähnel, Fraunhofer FEP Dresden und Herr Prof. Dr. Maik Fröhlich, Westsächsiche Hochschule Zwickau führen Sie durch das Aufbauseminar. THEORIE TEIL * Vorbehandlung vor der Beschichtung: a) Werkzeugbeschichtung b) Großflächenbeschichtung * Konzepte und Aufbau von Vakuumbeschichtungsanlagen PRAXIS TEIL * Besichtigung des Fraunhofer FEP * Praktische Arbeiten: Vakuumbeschichtungssystem Atmosphärendruckplasmaquelle TEILNAHMEGEBÜHR 890 EUR inkl. Teilnehmerunterlagen, Pausenversorgung. SICHER TAGEN Wir geben Ihnen Raum für Ihre…

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Oktober 2021

V2021 – Vakuum & Plasma

Oktober 12 - Oktober 14
Internationales Congress Center Dresden, Devrientstraße 10-12
Dresden, Sachsen 01067 Deutschland
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Workshop-Woche & Industrieausstellung Dünne Schichten und Oberflächen für Energie, Bio & Medizin, Optik, Werkzeuge & Bauteile Weitere Informationen finden Sie in unserem Flyer und demnächst hier. Die Aussteller-Anmeldung ist geöffnet. Anmeldeformular _Aussteller

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November 2021

Herbstsitzung PLASMA GERMANY

November 23 - November 24
Schaeffler Technolgies AG, Industriestraße 1-3
Herzogenaurach, Bayern 91074 Deutschland
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Weitere Informationen zur Herbstsitzung erhalten Sie unter: www.plasmagermany.org

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Dezember 2021

WORKSHOP: ALD for Industry 2021

Dezember 1 - Dezember 2

5th Workshop, Tutorial & Exhibition after four successful events we are looking forward to the next ALD Meeting. Atomic Layer Deposition (ALD) is used to deposit ultraconformal thin films with sub-nm film thickness control. The method is unique in the sense that it em­ploys sequential self-limiting surface reactions for growth in the monolayer thickness regime. Today, ALD is a key technology in leading edge semiconductor technology and the field of application in other industries is increasing rapidly. According to market…

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