01.09.2017 – 29.02.2020

Im Vorhaben wurde ein gemeinsamer digitaler Zwilling für PVD- und PECVD-Beschichtungsprozesse erstellt, der sowohl die Prozess- als auch die Schichtwachstumsdynamik beschreibt. Die bei den Projektpartnern bestehenden komplementären Softwaretools wurden weiterentwickelt und an verschiedenen Beschichtungsanlagen validierte Demonstrationsfälle erarbeitet. Die erweiterten Tools können für industrielle Simulationsstudien genutzt werden.

Forschungsstellen/Projektleiter:
Herr Dr. Andreas Pflug; Fraunhofer IST, Braunschweig
Herr Dr. Marco Jupé, Laser Zentrum Hannover

Projektbegleitender Ausschuss:
asphericon GmbH
Schneider GmbH & Co. KG
W+L Coating Systems GmbH
VON ARDENNE GmbH
robeko GmbH & Co. KG
Laser Components GmbH
INTERPANE Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH
Cutting Edge Coatings GmbH

Veröffentlichungen

Abschlußbericht [PDF]

[Badorreck 2019]:
Badorreck, H.; Steinecke, M.; Jensen, L.; Ristau, D.; Jupé, M.; Müller, J.; Tonneau, R.; Moskovkin, P.; Lucas, S.; Pflug, A.; Grineviciūtė, L.; Selskis, A. & Tolenis, T.: Correlation of structural and optical properties using virtual materials analysis. In: Optics Express 27 (2019), Nr. 16, S. 22209

[Pflug 2019]:
Pflug, A.; Bruns, S.; Zickenrott, T.; Britze, C.; Vergöhl, M. & Kirschner, V.: Plasma and process modelling for PVD deposition onto moving 3D substrates. In: Proceedings of the 15th ISSP., Kanazawa, JP (2019).

[Schwerdtner 2020]:
Schwerdtner, P.: Ortsaufgelöste Untersuchung der optischen Eigenschaften von Tantalpentoxid-Schichten im IBS-Beschichtungsverfahren, Bericht, Universität Hannover, Masterarbeit, Universität Hannover, 2020, S. 101

[Tonneau 2020]:
Tonneau, R.; Pflug, A. & Lucas, S.: Magnetron sputtering: determining scaling relations towards real power discharges using 3D Particle-In-Cell Monte Carlo models. In: Plasma Sources Science and Technology (2020)

[Tonneau 2021]:
Tonneau, R.; Moskovkin, P.; Muller, J.; Melzig, T.; Haye, E.; Konstantinidis, S.; Pflug, A. & Lucas, S.: Understanding the role of energetic particles during the growth of TiO2 thin films by reactive magnetron sputtering through multi-scale Monte Carlo simulations and experimental deposition. In: Journal of Physics D: Applied Physics 54 (2021), Nr. 15, S. 155203