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September 2021
Workshop: Oberflächenmodifikation und Endbearbeitung additiv gefertigter Bauteile – SurfAM3
Stand 23.07.2021, Änderungen vorbehalten Workshop mit Fokus auf das Postprocessing / Endbearbeitung additiv-hergestellter Bauteile Inklusive: Firmenausstellung, Use-Case-Betrachtungen, Führung und Praxissession am Zentrum für Additive Fertigung Dresden (Fraunhofer IWS) Nach erfolgreicher Auftaktveranstaltung in 2019, greift der 3. SurfAM-Workshop vom 09.-10. September 2021 in Dresden zahlreiche wichtige Themenstellungen des Postprocessings und der Oberflächenmodifikation von additiv-gefertigten Bauteilen auf. ♦ Gewinnen Sie neue Eindrücke zur additiven Fertigung und deren nachgelagerten Prozessschritten ♦ Tauschen Sie sich mit Experten aus ♦ Gestalten Sie ausgewählte anwendungsnahe Use…
Erfahren Sie mehr »Europäisches H2-Symposium: Oberflächenfunktionalisierung – Schlüsseltechnologie für eine effiziente Wasserstoffwirtschaft
Das Symposium befasst sich mit Möglichkeiten und Perspektiven zur Steigerung der Effizienz der Wasserstoffwirtschaft mittels Oberflächenfunktionalisierung. Ziel ist u.a. die Vernetzung der Dünnschichtszene mit den Wasserstoff-Protagonisten, um die aktuellen Herausforderungen besser zu verstehen und Lösungen für den Standort Europa zu erarbeiten. ZIELGRUPPE Wasserstofftechnik | Energiewirtschaft | Oberflächentechnik | Produktionstechnik/ -technologie | Gebäudetechnik | Ressourcenwirtschaft | angrenzende Fachgebiete VORTRÄGE u.a. von SIEMENS energy | Hauzer/Ionbond | Vitesco | Fraunhofer Gesellschaft | Forschungszentrum Jülich | Helmholtz-Institut Erlangen-Nürnberg PODIUMSDISKUSSION | WERKSBESICHTIGUNG BEI SIEMENS…
Erfahren Sie mehr »Oktober 2021
V2021 – Vakuum & Plasma
Workshop-Woche & Industrieausstellung Dünne Schichten und Oberflächen für Energie, Bio & Medizin, Optik, Werkzeuge & Bauteile Weitere Informationen finden Sie in unserem Flyer und demnächst hier. Die Aussteller-Anmeldung ist geöffnet. Anmeldeformular _Aussteller
Erfahren Sie mehr »Dezember 2021
WORKSHOP: ALD for Industry 2021
5th Workshop, Tutorial & Exhibition after four successful events we are looking forward to the next ALD Meeting. Atomic Layer Deposition (ALD) is used to deposit ultraconformal thin films with sub-nm film thickness control. The method is unique in the sense that it employs sequential self-limiting surface reactions for growth in the monolayer thickness regime. Today, ALD is a key technology in leading edge semiconductor technology and the field of application in other industries is increasing rapidly. According to market…
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