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Oktober 2020

Fachausschuss FABM

Oktober 1
Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. IOM, Permoserstraße 15
Leipzig, Sachsen 04318 Deutschland
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♦ Diskussion aktueller Forschungsthemen ♦ Fortschritt laufender IGF-Projekte ♦ Vorstellung neuer Projektskizzen für IGF-Projekte Die Deadline für die Einreichung der Projektskizzen ist auf den 31.08.2020 festgesetzt.

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Fachausschuss FAFK

Oktober 20

♦ Diskussion aktueller Forschungsthemen ♦ Fortschritt laufender IGF-Projekte ♦ Vorstellung neuer Projektskizzen für IGF-Projekte Die Deadline für die Einreichung der Projektskizzen ist auf den 21.09.2020 festgesetzt.

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November 2020

PLASMA GERMANY: Herbstsitzung

November 3 - November 4
Fraunhofer-Institut für Angewandte Polymerforschung IAP,, Geiselbergstraße 69
Potsdam-Golm, Brandenburg 14476 Deutschland
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Weitere Informationen erhalten Sie unter: www.plasmagermany.org

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Fachausschuss FABF: Beschichtungstechnologien für Optische und Elektronische Funktionalisierung

November 5
Sentech Instruments GmbH, Berlin, Schwarzschildstraße 2
Berlin, 12489 Deutschland
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Ort: Sentech Instruments GmbH, Berlin ♦ Diskussion aktueller Forschungsthemen ♦ Vorstellung neuer Projektskizzen für IGF-Projekte Die Deadline für die Einreichung der Projektskizzen ist auf den 05.10.2020 festgesetzt.

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EFDS-2. Beiratssitzung

November 10
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EFDS-Mitgliederversammlung 2020

November 17
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Dezember 2020

Fachausschuss FATS: Tribologische Schichten

Dezember 1

♦ Diskussion aktueller Forschungsthemen ♦ Fortschritt laufender IGF-Projekte ♦ Vorstellung neuer Projektskizzen für IGF-Projekte Die Deadline für die Einreichung der Projektskizzen ist auf den 02.11.2020 festgesetzt.

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Workshop: ALD for Industry

Dezember 2 - Dezember 3
HYPERION Hotel Dresden am Schloss, Schlossstrasse 16
Dresden, Sachsen 01067 Deutschland
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4th Workshop and Industrial Exhibition Tutorial & Company Tour » PROGRAMM TOPICS: ♦ Semiconductor ♦ MEMS and Sensors ♦ Display ♦ Lightning ♦ Barriers ♦ Photovoltaics ♦ Battery ♦ Powder Coating ♦ Medical Applications ♦ Decorative Coatings CONTENT: A topical workshop with focus on industrialization and commercialization of ALD for current and emerging markets Atomic Layer Deposition (ALD) is used to deposit ultraconformal thin films with sub-nm film thickness control. The method is unique in the sense that it employs sequential self-limiting surface reactions for…

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