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Workshop: Diagnostik von Prozessplasmen: Möglichkeiten, Grenzen und Anwendungen

Dezember 3

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Inhalte:

Plasmatechnologien für die Oberflächenmodifizierung und Schichtabscheidung sind industriell etabliert und die meisten Produkte der Halbleitertechnik, der Automobilindustrie, der Medizintechnik etc. sind ohne technologische Plasmaprozesse heutzutage kaum noch vorstellbar.

Zur Gewährleistung der Prozesssicherheit beim Einsatz der Plasmatechnik ist aber eine spezifische Prozesskontrolle unerlässlich. Zur Verbesserung dieser Diagnostik und damit letztlich auch zur Kostenreduktion der Fertigungsprozesse ist eine ständige Weiterentwicklung der relevanten Diagnostiken erforderlich.

Dieser Thematik widmet sich der Workshop „Diagnostik von Prozessplasmen: Möglichkeiten, Grenzen und Anwendungen“. Aus einschlägigen und renommierten Forschungseinrichtungen werden die neuesten Ergebnisse der Plasmadiagnostik vorgestellt und die Umsetzung bei einigen Industriepartnern aufgezeigt. Neben sehr speziellen diagnostischen Verfahren werden auch relativ einfach einsetzbare Methoden vorgestellt, die für einen industrienahen Einsatz gut geeignet sind.

Der Workshop wendet sich damit gleichermaßen an Entwickler und Praktiker in Plasmatechnik und Anlagenbau sowie Physiker und Techniker aus der Grundlagenforschung.

Der Workshop wird veranstaltet von der Europäischen Forschungsgesellschaft Dünne Schichten e.V. (EFDS) gemeinsam mit der Universität Kiel, der Ruhr-Universität Bochum und dem Fraunhofer FEP Dresden.

Teilnahmegebühren:
– 490,00 EUR Frühbucherpreis bei einer Anmeldung bis zum 30.09.2019;
– 590,00 EUR bei einer Anmeldung ab dem 01.10.2019;
– 195,00 EUR für Studenten (Nachweis erforderlich)

Details

Datum:
Dezember 3
Veranstaltungskategorien:
,

Veranstaltungsort

Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP
Winterbergstraße 28
Dresden, Sachsen 01277 Deutschland
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