Atomic Layer Deposition (ALD) ist eine Variante der Chemischen Dampfphasen Abscheidung (CVD).  Ausgehend von z. T. recht komplexen gasförmigen Precursoren werden die Komponenten chemischer Verbindungen, aber auch reine Metalle atomlagenweise gesteuert abgeschieden. ALD ist ein Verfahren, das naturgemäß sehr langsam abläuft und deshalb auf den ersten Blick für industrielle Massenprodukte uninteressant erscheint. Das Gegenteil ist der Fall. Das Verfahren eignet sich für Batch-Prozesse mit großen Chargen und auch für Durchlaufprozesse, wodurch die Produktivität insgesamt gesehen akzeptabel wird.
Man setzt in zwei Fällen auf ALD:

• Wenn es um Nanometerschichten mit hohen Anforderungen an die kristalline Perfektion geht und
• wenn man aus irgendwelchen Gründen mit klassischer PVD- oder CVD-Abscheidung nicht weiter kommt, z. B. bei geometrischen Einschränkungen der Beschichtung.

Ein erstes Massenprodukt waren Elektrolumineszenz-Flachbildschirme auf Zinksulfid-Basis. Inzwischen gibt es weitere Anwendungsgebiete bzw. Ideen für künftige Anwendungen, denen sich der Workshop widmen wird.

Veranstaltungsinformationen:

Rahmenprogramm am Vortag:

Besichtigung des IHM /Namlab gGmbH am 06.03.2012 um 16:30 Uhr und anschließendes Get-Together im "Brauereiausschank Watzke am Goldenen Reiter" (19:00 Uhr).