Workshop: ALD - von der Grundlage zur industriellen Anwendung

Atomic Layer Deposition (ALD) ist eine Variante der Chemischen Dampfphasen Abscheidung (CVD).  Ausgehend von z. T. recht komplexen gasförmigen Precursoren werden die Komponenten chemischer Verbindungen, aber auch reine Metalle atomlagenweise gesteuert abgeschieden. ALD ist ein Verfahren, das naturgemäß sehr langsam abläuft und deshalb auf den ersten Blick für industrielle Massenprodukte uninteressant erscheint. Das Gegenteil ist der Fall. Das Verfahren eignet sich für Batch-Prozesse mit großen Chargen und auch für Durchlaufprozesse, wodurch die Produktivität insgesamt gesehen akzeptabel wird.
Man setzt in zwei Fällen auf ALD:

  • Wenn es um Nanometerschichten mit hohen Anforderungen an die kristalline Perfektion geht und
  • wenn man aus irgendwelchen Gründen mit klassischer PVD- oder CVD-Abscheidung nicht weiter kommt, z. B. bei geometrischen Einschränkungen der Beschichtung.

Ein erstes Massenprodukt waren Elektrolumineszenz-Flachbildschirme auf Zinksulfid-Basis. Inzwischen gibt es weitere Anwendungsgebiete bzw. Ideen für künftige Anwendungen, denen sich der Workshop widmen wird.

Veranstaltungsinformationen:

Datum: 07.03.2012
Uhrzeit: 09:30 - 17:00 Uhr
Ort: Audimax des Fraunhofer-FEP
Winterbergstraße 28
01277 Dresden
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Zielgruppen: 
  • Praktiker und Entwickler aus allen Anwendungsbereichen der Dünnschichttechnik
  • Entwickler aus dem Anlagenbau
  • Wissenschaftler aus dem Bereich der physikalischen und chemischen Forschung
Sprache: deutsch
   
Themen:
  • Mikro- und Nanoelektronik (z. B. high-k-Materialien)
  • TCO/TOS-Materialien
  • Magnetische Speicherschichten
  • Optische Beschichtungen, insbesondere für stark gekrümmte Oberflächen
  • Diffusionsbarrieren, insbesondere für die organische Elektronik einschließlich OLED
  • Korrosionsschutzsysteme
  • mechanische Schutzschichten
  • Brennstoffzellen- und Batterietechnik
  • Katalyse

Weiterhin werden auf dem Workshop Fragen der Precursorchemie, der Verfahrensentwicklung und des Anlagenbaus behandelt.

Programmkomitee: 
  • Prof. Dr. Wolfgang Bartha
    (TU Dresden, Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik)
  • Prof. Dr. Winfried Blau
    (EFDS)
  • Prof. Dr. Anjana Devi
    (Ruhr-Universität Bochum, Anorganische Chemie II)
  • Dr. Harald Liepack
    (DTF Technology GmbH, Dresden)
  • Dr. Jonas Sundqvist
    (Fraunhofer-CNT, Dresden)
Sonstiges:

Ein Tagungsband und Verpflegung sind in den Teilnahmegebühren mit inbegriffen.

Downloads:

Programm
Anmeldeformular


Rahmenprogramm am Vortag:


Besichtigung des IHM /Namlab gGmbH am 06.03.2012 um 16:30 Uhr und anschließendes Get-Together im "Brauereiausschank Watzke am Goldenen Reiter" (19:00 Uhr).

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