Europäische Forschungsgesellschaft Dünne Schichten e.V. • European Society of Thin Films

Sputtern

PVD-Verfahren, bei dem die Atome des Beschichtungsmaterials durch Stoß von energiereichen Ionen eines Plasmas aus der Targetoberfläche herausgeschlagen werden. Verstärkung des Plasmas durch zusätzliche Magnetfelder (Magnetronsputtern).