Oberflächen - ABC
- Auftragsschweißen
- Auftragsverfahren
- CVD
- Diffusionsbehandlung
- EUV-Lithographie
- Gasnitrieren
- Glare
- Induktionshärten
- Ionenimplantation
- Laser-/Elektronenstrahlhärten
- Laserakustik
- Laserbeschichten/-legieren
- Plasma-CVD
- Plasma-Immersions-Implantation
- Plasmabehandlung
- Plasmadekomposition
- Plasmapolymerisation
- Puls-Laserabscheidung
EUV-Lithographie
Lithographische Strukturierung
für den Bereich < 50 nm in der Mikroelektronik mit Hilfe von
kurzwelliger UV-Strahlung (= Extended Ultraviolet, EUV) = weicher
Röntgenstrahlung mit einer Wellenlänge von etwa 10 nm (für die
favorisierte Abbildung mit Mo-Si-Röntgenspiegeln: 13,8 nm)